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\r      工藝簡介<\/strong>\r<\/p>\r

\r      系統采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率**可達18.2MΩ*cm（25℃）。\r<\/p>\r

\r　　應用范圍<\/strong>\r<\/p>\r

\r　　單/多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、 液晶顯示器、導電玻璃、電池（蓄電池）、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器、潔凈產品及各種元器件等生產工藝用高純水 。\r<\/p>\r

\r　　本公司提供DQ(設計確認)、FAT(制造工廠測試)、IQ（安裝確認）、OQ（運行確認）、PQ（性能確認）等一系列活動，提供的數據和結論能夠證明該設備在生產中可以滿足生產工藝要求，設備的性能符合設計要求、產品出廠標準和**相關行業要求。\r<\/p><\/div>